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5nm芯片无需光刻机 中国科技公司已申请制造专利

2023-09-22 06:17:14   来源:互联网

近日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。

摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。此专利一经公布,便引起了大量网友的关注。对于申请这项专利的中国科技公司,相信不少网友都很好奇。

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申请这项专利的中国科技公司名叫“上海创消新技术发展有限公司”。根据企查查APP提供的信息,上海创消新技术发展有限公司于2019年3月13日正式成立,注册资本为50万元人民币,所属地区为上海市青浦区,法定代表人为刘明革,他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事,持有上海创消新技术发展有限公司85%的股份,另外15%的股份由“刘佳慧”持有,并没有什么大公司持有上海创消新技术发展有限公司的股份。

工商信息显示,上海创消新技术发展有限公司的注册资本包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。值得注意的是,这家公司的经营范围并没有涉及芯片相关的内容,例如芯片设计和芯片制造。

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